2020年中國光刻機產業發展現狀和競爭分析
2020-08-12 10:48
前瞻網
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產業鏈——在半導體產業中占據重要地位
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
光刻機產業的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設施，下游則主要應用于半導體／集成電路的制造與封裝。
產業政策——政策助力光刻機行業發展
從政策環境上來看，我國對于光刻機行業較為重視。其主要表現在對于整個IC產業鏈企業的政策優待以及對于半導體設備行業的相關規劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養，以及進出口，投融資方面的政策扶持。
在各項政策中較為突出的是《極大規模集成電路制造裝備及成套工藝》項目（02專項），其以專項的形式組織了一批國內光刻機企業進行了一系列重點工藝和技術的攻關，有效促進了我國光刻機行業的發展。
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