EUV
極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。
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EUV光刻機困住高端芯片 復(fù)旦教授點明國產(chǎn)芯片新方向
無論是信息化時代到來, 芯片在電子產(chǎn)品中的重要性日趨凸顯;還是華為因為高端芯片供不應(yīng)求,導(dǎo)致手機業(yè)務(wù)受阻,都讓國內(nèi)芯片廠商看到了芯片國產(chǎn)化替代的重要性。為了實現(xiàn)芯片的國產(chǎn)化自研,中芯國際、紫光展銳等國產(chǎn)芯片廠商投入大量的研究資本以及人力尋求突破
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ASML最新EUV光刻機曝光：精細到1nm
全世界能生產(chǎn)EUV光刻機的廠商就一家,那就是荷蘭的ASML。為何只有ASML能夠生產(chǎn)EUV光刻機?原因在于ASML綁定了好多的巨頭,且是獨家合作的,比如蔡司、比如德國TRUMPF公司,這些巨頭在極紫外線制造技術(shù),收集技術(shù)上達到極致,無可取代
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ASML宣布在臺灣建海外培訓(xùn)中心 旨在輔導(dǎo)臺積電EUV光刻制造集群
ASML近日宣布，將在臺灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外（荷蘭之外）的首個培訓(xùn)中心，旨在就近輔導(dǎo)臺積電所領(lǐng)導(dǎo)EUV光刻制造集群。
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